O advento dos lasers de pulsos ultracurtos (usp, sigla em inglês para ultrashort pulse) permitiram novas possibilidades na fabricação em micro e nanoescala. características destes lasers, como alta resolução lateral devido a capacidade de ser precisamente focado em alguns micrometros, baixo calor fornecido à peça e alta flexibilidade são os principais atributos desta ferramenta em processos para estruturação e funcionalização de superfícies. apesar das vantagens dos lasers de pulsos ultracurtos, suas aplicações são relativamente novas e necessitam desenvolvimento. demandas crescentes em qualidade e produtividade em ablação a laser criam a necessidade de aplicar sistemas de monitoramento de processos na produção industrial. no campo dos eletrônicos, especialmente, a atual miniaturização dos produtos requer pequenos componentes de alta precisão. a fabricação de placas de circuito impresso por laser requer uma ablação precisa de filmes finos de cobre sobre substrato polimérico, com mínimo dano ao substrato. com o objetivo de aumentar a confiabilidade do processo para uma completa ablação de cobre, um sistema de monitoramento de alta velocidade, com resolução espacial, baseado em analisadores de espectro óptico com grade de difração é desenvolvido e integrado à máquina de ablação a laser. na ablação a laser de placas de circuito impresso, a camada de cobre é removida em determinadas regiões pela interação do feixe laser com a peça. esta interação emite radiação em comprimentos de ondas específicos, de acordo com o material. para monitorar o processo, o espectro da radiação emitida é observado. quando o espectro muda para um padrão diferente de comprimentos de onda, considera-se que a camada de cobre foi removida e a camada de polímero interage com o laser. um sistema óptico capaz de separar o espectro da radiação emitida é montado. para cumprir as exigências do processo e detectar a emissão, um fotodetector de alta velocidade e alta sensibilidade é utilizado. informações de posição do sistema de deflexão do feixe (scanner) são incorporadas às informações de emissão do fotodetector e um mapa de emissão é construído. o sistema de monitoramento é capaz de observar a radiação emitida por diferentes materiais. regiões onde o cobre está presente podem ser bem identificadas. o mapa de emissão se apresenta como um estratégia válida para o monitoramento do processo de ablação a laser.